纳米胶体磨

简要描述：纳米胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

产品型号： NK2000

所属分类：高剪切胶体磨

更新时间：2024-08-24

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  纳米胶体磨。NK2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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  纳米胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

CIK纳米高剪切胶体磨。NK2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

    CIK纳米高剪切胶体磨  三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

影响分散研磨结果的因素有以下几点

1、胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）
2、胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3、物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4、循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 
– 剪切速率 (s-1) =     v  速率 (m/s)   
             g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素： 
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
CIK 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

zui高转速可以达到14000RPM。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上，分散乳化均质研磨效果非常好。

 纳米胶体磨信息来源于：http://www.ciksh。。ｃｏｍ/ProductShow_16.html