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光触媒超高速分散机，光触媒研磨分散机，纳米二氧化钛分散机，光触媒超细分散机，纳米分散机，光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称。
在所有的光触媒材料中，纳米TiO2不仅具有很高的光催化活性，且具有耐酸碱腐蚀、耐化学腐蚀、无毒等优点，价格也适中，具有较高的性价比，因而市场上大多使用纳米二氧化钛作为主要原材料。
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对于纳米级物料的分散，容易出现团聚的现象，纳米二氧化钛的分散也不例外。团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小，表面原子比例大，比表面积大，表面能大，处于能量不稳定状态，因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起，很容易团聚，形成团聚状的二次颗粒，乃至三次颗粒，使粒子粒径变大，在每个颗粒内部有细小孔隙。
纳米颗粒的团聚一般分为两种：软团聚和硬团聚。对于软团聚机理，人们的看法比较*，即，软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致，由于作用力较弱，可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。
研磨分散机是高剪切胶体磨+高剪切分散机的设备，将两者一体化，解决了时间差的问题，因为物料团聚是一个瞬间的过程，研磨后立即分散，效果好，效率高。
CRS2000系列光触媒超高速分散机是CIK（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
型号 | zui大处理量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进出口尺寸 |
CRS2000/4 | 300-1000 | 9，000 | 23 | 2,.2 | DN25/DN15 |
CRS2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CRS2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CRS2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CRS2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 37 | DN150/DN125 |
CRS2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CRS2000/50 | 125，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
信息来源于www.ciksh。。ｃｏｍ
