实验室胶体磨，中试型胶体磨

简要描述：实验室胶体磨，中试型胶体磨，日化混合搅拌设备，德国胶体磨，上海混合设备厂家，cik胶体磨细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

产品型号： NK2000

所属分类：实验室胶体磨

更新时间：2024-08-26

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详细说明：

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【产品介绍】

本机组是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果

NK2000系列胶体磨是专门B针对那些需要很好乳化和分散效果的生产。NK2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CIK胶体磨与传统胶体磨比较

☆ 高效、节能
传统设备需8小时的分散加工过程，NK设备1小时左右完成，超细分散*，能耗极大降低；

☆ 高速、高品质
传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带分散功能的转速每分钟1500转以内，只完成宏观分散加工，超细分散能力极为有限；NK设备的转速每分钟10000～15000转之间，超高线速度产生的剪切力，瞬间超细分散浆料中的粉体。

影响分散研磨结果的因素有以下几点

1 、胶体磨磨头头的剪切速率（越大，效果越好）

2 、胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

3 、物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

4 、循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

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线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
CIK 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

产品选型表

型号	标准流量 L/H	输出转速 rpm	标准线速度 m/s	马达功率 KW	进口尺寸	出口尺寸
NK2000/4	300-1，000	9，000	23	2.2	DN25	DN15
NK2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40	DN32
NK2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50	DN50
NK2000/20	20，000	3，000	23	37	DN80	DN65
NK2000/30	40，000	1，500	23	55	DN150	DN125
NK2000/40	70，000	1，500	23	90	DN150	DN125