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上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 欢迎咨询

上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 欢迎咨询

简要描述:上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 ,纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散设备,碳酸钙分散机,超细分散机,纳米分散机可生产粒径较大单粒径分布范围较窄的乳液。它具有较高的剪切率,保证了混合液的稳定性。选用不同的分散头(转子+定子)组合,可满足不同的工艺和流体学要求。

产品型号:

所属分类:纳米分散机

更新时间:2024-08-26

详细说明:

期待您的来电!如您有购买产品的意向,欢迎随时来参观本公司,了解我们的机器,本公司销售产品皆配有样机可供客户试机等,以便您选购!!!

 

【产品介绍】

一、产品名称:纳米碳酸钙分散机,纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散设备,碳酸钙分散机,超细分散机,纳米分散机

 

二、纳米碳酸钙简介

纳米碳酸钙又称超微细碳酸钙。标准的名称即超细碳酸钙。纳米碳酸钙应用成熟的行业是塑料工业主要应用于高档塑料制品。可改善塑料母料的流变性,提高其成型性。用作塑料填料具有增韧补强的作用,提高塑料的弯曲强度和弯曲弹性模量,热变形温度和尺寸稳定性,同时还赋予塑料滞热性。纳米碳酸钙用于油墨产品中体现出了优异的分散性和透明性和*的光泽、及优异的油墨吸收性和高干燥性。纳米碳酸钙在树脂型油墨中作油墨填料,具有稳定性好,光泽度高,不影响印刷油墨的干燥性能.适应性强等优点。

三、纳米碳酸钙的分散难点

纳米碳酸钙分散到水中或者溶剂当中,容易出现抱团的现象,导致物料粒径变大,分散效果不佳,产品改性不充分。如果使用普通的分散设备,很难将纳米碳酸钙分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用CIK新研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达纳米碳酸钙还原至纳米级。
3

   

          


四、CIK纳米碳酸钙分散设备简介

CIK研磨式分散机,是由胶体磨+分散机结合而成的设备,主要是为了解决纳米级物料的分散,如:纳米碳酸钙、纳米氢氧化镁、纳米氧化铝、石墨烯、碳纳米管等纳米级物料的分散。


CDL2000系列研磨分散设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六种乳化头供客户选择)

五、
CDL2000系列纳米碳酸钙分散机的特点:

① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

产品选型表:

    型号    

  zui大处理量  

L/H

  输出转速  

rpm

  标准线速度  

m/s

  马达功率  

KW

  进出口尺寸  

CDL2000/4

300-1000

9,000

23

2,.2

DN25/DN15

CDL2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CDL2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

CDL2000/20

20,000

3,000

23

22

DN80/DN65

CDL2000/30

40,000

1,500

23

37

DN150/DN125

CDL2000/40

70,000

1,500

23

55

DN150/DN125

CDL2000/50

125,000

1,100

23

110

DN200/DN150

 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

 

 

 

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